Activation annealing of ultra-low-energy implanted boron in silicon: a study combining experiment and process modeling
Articolo
Data di Pubblicazione:
2000
Tipologia CRIS:
01.01 Articolo in rivista
Keywords:
TRANSIENT ENHANCED DIFFUSION; PHYSICAL-MECHANISMS; SIMULATION
Elenco autori:
Privitera, Vittorio; Napolitani, Enrico
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