XRD and EXAFS studies of HfO2 crystallisation in SiO2-HfO2 films

Articolo

Data di Pubblicazione:

2006

Tipologia CRIS:

01.01 Articolo in rivista

Elenco autori:

Armellini, Cristina; Jestin, Yoann; Rocca, Francesco

Link alla scheda completa:

https://iris.cnr.it/handle/20.500.14243/42191

Pubblicato in:

MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING

Journal