Chemical and Morphological Characterization of Low-k Dielectric Films Deposited From Hexamethyldisiloxane and Ethylene RF Glow Discharges

Articolo
Data di Pubblicazione:
2010
Tipologia CRIS:
01.01 Articolo in rivista
Elenco autori:
Autori di Ateneo:
Link alla scheda completa:
https://iris.cnr.it/handle/20.500.14243/22747
Pubblicato in:
PLASMA PROCESSES AND POLYMERS (PRINT)
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