Noise performance of polycrystalline silicon thin-film transistors made by sequential lateral solidification.

Articolo
Data di Pubblicazione:
2003
Tipologia CRIS:
01.01 Articolo in rivista
Keywords:
polycrystalline sili; thin film transistor; low-frequency noise
Elenco autori:
Autori di Ateneo:
Link alla scheda completa:
https://iris.cnr.it/handle/20.500.14243/22627
Pubblicato in:
APPLIED PHYSICS LETTERS
Journal