A comparative analysis of silicon dioxide films deposited by ECR-PECVD, TEOS-PECVD and Vapox-APCVD

Articolo
Data di Pubblicazione:
2006
Tipologia CRIS:
01.01 Articolo in rivista
Elenco autori:
Autori di Ateneo:
Link alla scheda completa:
https://iris.cnr.it/handle/20.500.14243/21052
Pubblicato in:
JOURNAL OF NON-CRYSTALLINE SOLIDS
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