Organometallic Compounds as Precursors for Chemical Vapor Deposition of Thin Films of Inorganic Materials

Contributo in Atti di convegno
Data di Pubblicazione:
1998
Tipologia CRIS:
04.01 Contributo in Atti di convegno
Keywords:
MOCVD; Precursor; Synthesis; Thin Film
Elenco autori:
Link alla scheda completa:
https://iris.cnr.it/handle/20.500.14243/131130
Titolo del libro:
Advanced Materials and Processes: YUCOMAT '97
Pubblicato in:
MATERIALS SCIENCE FORUM
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