Chemical Model of Plasma Deposition of Amorphous Silicon Films from SiCl4-H2 Mixtures

Abstract
Data di Pubblicazione:
1987
Tipologia CRIS:
04.02 Abstract in Atti di convegno
Elenco autori:
Link alla scheda completa:
https://iris.cnr.it/handle/20.500.14243/130939
Titolo del libro:
Atti del XX Congresso Nazionale di Chimica Inorganica