"Low Temperature Deposition of SiNx Thin Films by the LPCVD Method"

Articolo
Data di Pubblicazione:
2012
Tipologia CRIS:
01.01 Articolo in rivista
Keywords:
silicon nitride; thin film; LPCVD method; Raman; FTIR
Elenco autori:
Autori di Ateneo:
Link alla scheda completa:
https://iris.cnr.it/handle/20.500.14243/11698
Pubblicato in:
CROATICA CHEMICA ACTA
Journal