Structural and Electrical Properties of ALD Deposited Er-HfO2 for Gate Dielectric

Contributo in Atti di convegno
Data di Pubblicazione:
2010
Tipologia CRIS:
04.01 Contributo in Atti di convegno
Elenco autori:
Autori di Ateneo:
Link alla scheda completa:
https://iris.cnr.it/handle/20.500.14243/70171