Plasma deposition of SiC:H thin films from SiF4-CH4-H2-He mixtures.

Contributo in Atti di convegno
Data di Pubblicazione:
2001
Tipologia CRIS:
04.01 Contributo in Atti di convegno
Elenco autori:
Link alla scheda completa:
https://iris.cnr.it/handle/20.500.14243/8680
Titolo del libro:
15th International Symposium on Plasma Chemistry, (ISPC-15) Proceedings IUPAC