Electrical characterization of ultra-shallow junctions formed by diffusion from a CoSi2 diffusion source

Contributo in Atti di convegno
Data di Pubblicazione:
1996
Tipologia CRIS:
04.01 Contributo in Atti di convegno
Elenco autori:
Autori di Ateneo:
Link alla scheda completa:
https://iris.cnr.it/handle/20.500.14243/125278
Pubblicato in:
MATERIALS RESEARCH SOCIETY SYMPOSIA PROCEEDINGS
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