Surface texturing of n- and p-doped c-Si using a novel plasma chemical texturing process

Articolo
Data di Pubblicazione:
2011
Abstract:
[object Object]
Tipologia CRIS:
01.01 Articolo in rivista
Keywords:
Doped c-Si; Optical reflectance; [object Object; Texturing
Elenco autori:
Autori di Ateneo:
Link alla scheda completa:
https://iris.cnr.it/handle/20.500.14243/274533
Pubblicato in:
ENERGY PROCEDIA
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