Clustering of ultra-low-energy implanted boron in silicon during activation annealing

Articolo
Data di Pubblicazione:
2000
Tipologia CRIS:
01.01 Articolo in rivista
Keywords:
PHYSICAL-MECHANISMS; DIFFUSION
Elenco autori:
Autori di Ateneo:
Link alla scheda completa:
https://iris.cnr.it/handle/20.500.14243/178036
Pubblicato in:
MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B-SOLID STATE MATERIALS FOR ADVANCED TECHNOLOGY
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