Strain Characterisation at the nm Scale of Deep Sub-Micron Devices by Convergent-Beam Electron Diffraction
Contributo in Atti di convegno
Data di Pubblicazione:
2002
Tipologia CRIS:
04.01 Contributo in Atti di convegno
Keywords:
electron diffraction; process simulation; silicon devices; strain; stress
Elenco autori:
Armigliato, Aldo; Balboni, Roberto
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Titolo del libro:
GETTERING AND DEFECT ENGINEERING IN SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY
Pubblicato in: