Plasma enhanced chemical vapor deposition of nanocrystalline silicon films from SiF4-H2-He at low temperature
Abstract
Data di Pubblicazione:
1998
Tipologia CRIS:
04.02 Abstract in Atti di convegno
Elenco autori:
Cicala, Grazia
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Titolo del libro:
Abstracts European Mat. Res. Soc. Spring Meeting (E-MRS)