Comment on "Etch characteristics of CeO2 thin film in Ar/CF4/Cl2 plasma" [J. Vac. Sci. Technol. A 21, 426 (2003)]
Articolo
Data di Pubblicazione:
2004
Tipologia CRIS:
01.08 Comunicazione in rivista (Letter - Letter to editor)
Keywords:
XPS; Ce3d spectra
Elenco autori:
Paparazzo, Ernesto
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