Messa a punto di un processo di realizzazione di transistor a film sottile di silicio policristallino su substrati plastici (polyimide).

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Data di Pubblicazione:
2007
Tipologia CRIS:
05.12 Altro
Elenco autori:
Autori di Ateneo:
Link alla scheda completa:
https://iris.cnr.it/handle/20.500.14243/152084