On the use of NF3 plasmas for amorphous silicon ablation

Contributo in Atti di convegno

Data di Pubblicazione:

1993

Tipologia CRIS:

04.01 Contributo in Atti di convegno

Elenco autori:

Cicala, Grazia

Link alla scheda completa:

https://iris.cnr.it/handle/20.500.14243/116738

Titolo del libro:

11th International Symposium on Plasma Chemistry, (ISPC-11) Proceedings IUPAC