A Study of the Growth Mechanism of Microcristalline Thin Silicon Films Deposited at Low Temperature by SiF4-H2 PECVD

Articolo
Data di Pubblicazione:
2004
Tipologia CRIS:
01.01 Articolo in rivista
Elenco autori:
Autori di Ateneo:
Link alla scheda completa:
https://iris.cnr.it/handle/20.500.14243/33526