Behaviour of low energy As ions implanted in Si through a thin oxide layer

Contributo in Atti di convegno
Data di Pubblicazione:
2004
Tipologia CRIS:
04.01 Contributo in Atti di convegno
Elenco autori:
Autori di Ateneo:
Link alla scheda completa:
https://iris.cnr.it/handle/20.500.14243/150119