Gestione e controllo di un reattore MOCVD automatizzato per la deposizione di materiali nanostrutturati via Atomic Layer Deposition
Articolo
Data di Pubblicazione:
2007
Tipologia CRIS:
01.01 Articolo in rivista
Keywords:
MOCVD; ALD; Controllo
Elenco autori:
Bolzan, Marco; Rossetto, GILBERTO LUCIO
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