Plasma deposition of Amorphous Silicon Alloys: a-Si,Ge:H,F, Thin Films from SiF4-GeH4-H2 Mixtures

Abstract
Data di Pubblicazione:
1988
Tipologia CRIS:
04.02 Abstract in Atti di convegno
Elenco autori:
Link alla scheda completa:
https://iris.cnr.it/handle/20.500.14243/142483