Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) of Amorphous Silicon-Germanium Alloys from SiF4-GeH4-H2 Mixtures
Abstract
Data di Pubblicazione:
1989
Tipologia CRIS:
04.02 Abstract in Atti di convegno
Elenco autori:
Cicala, Grazia
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Titolo del libro:
Atti del Congresso Interdivisionale della Società Chimica Italiana(CISCI 89)