Study of NF3 Plasmas for the Ablation of Amorphous Silicon from internal PECVD Reactor walls
Abstract
Data di Pubblicazione:
1993
Tipologia CRIS:
04.02 Abstract in Atti di convegno
Elenco autori:
Cicala, Grazia
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Titolo del libro:
Abstracts XII Congresso Nazionale sulla Scienza e Tecnologia del Vuoto