A comparative analysis of Silicon Dioxide films deposited by ECR -PECVD, RF-PECVD and APCVD for low temperature polysilicon TFTs
Articolo
Data di Pubblicazione:
2006
Tipologia CRIS:
01.01 Articolo in rivista
Elenco autori:
Maiolo, Luca; Pecora, Alessandro; Fortunato, Guglielmo
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