Processo di deposizione C-CVD selettiva di pochi strati di grafene su larga area

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Data di Pubblicazione:
2010
Abstract:
Deposizione di pochi strati di grafene di alta qualità mediante C-CVD utilizzando Ni/SiO2 come catalizzatore.
Tipologia CRIS:
05.12 Altro
Keywords:
grafene; sintesi C-CVD; few-layer graphene
Elenco autori:
Autori di Ateneo:
Link alla scheda completa:
https://iris.cnr.it/handle/20.500.14243/195688