Data di Pubblicazione:
2013
Abstract:
Spectroscopic techniques can be used to estimate structural inhomogeneities in silicon oxide thin films.
Tipologia CRIS:
01.01 Articolo in rivista
Keywords:
SiOx; TOF-ERDA; EDX; XPS; IR absorption
Elenco autori:
Ristic, Davor; Ferrari, Maurizio
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