APPARATO PER IL TRIMMING LOCALIZZATO DELLA CORRENTE CRITICA IN GIUNZIONI JOSEPHSON

E’ stato progettato e realizzato un apparato per l’annealing termico mediante radiazione laser di giunzioni tunnel Josephson basate sulla tecnologia del niobio. Tale tecnica innovativa permette il riscaldamento, su un chip a LSI, di un singolo elemento circuitale con una soddisfacente risoluzione spaziale (dell’ordine dei 10 ?m). Il chip è esposto, opportunamente allineato con risoluzione micrometrica, a radiazione laser (cw Ar+, ?=514.5 nm) focalizzata e la distribuzione delle temperature è controllata, in continuo, mediante termocamera ad alta risoluzione (0.1 °C). Effetto dell’annealing localizzato è una variazione controllata (diminuzione fino a circa il 50%) e permanente della corrente Josephson dc della singola giunzione selezionata lasciando immutata quella degli altri elementi presenti sul chip. L’apparato è stato, in via preliminare, impiegato su giunzioni Josephson Nb/AlOx/Nb di altissima qualità senza degrado della stessa e per l’ottimizzazione delle caratteristiche di dc-SQUID ottenendo una riduzione della densità spettrale del rumore magnetico da circa 30 a 2.5 fT/Hz1/2.