Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition of silicon dioxide-like films: a chemical structure study for barrier applications

Contributo in Atti di convegno
Data di Pubblicazione:
2008
Tipologia CRIS:
04.01 Contributo in Atti di convegno
Elenco autori:
Autori di Ateneo:
Link alla scheda completa:
https://iris.cnr.it/handle/20.500.14243/53960