Circuiti integrati con retro-metallizzazione e relativo metodo di produzione

Patent
Publication Date:
2010
Iris type:
06.01 Brevetto di invenzione industriale
Keywords:
nickel; silicide; contact resistance; LDMOS
List of contributors:
Authors of the University:
Handle:
https://iris.cnr.it/handle/20.500.14243/280467