Annealing Behaviour of High Concentration of Implanted Sb and Sn in Silicon

Contributo in Atti di convegno
Data di Pubblicazione:
1986
Abstract:
-
Tipologia CRIS:
04.01 Contributo in Atti di convegno
Keywords:
High doping concentration; Sb in Si; Sn in Si; annealing; ion implantation; รน
Elenco autori:
Autori di Ateneo:
Link alla scheda completa:
https://iris.cnr.it/handle/20.500.14243/238493
Titolo del libro:
Defect in Semiconductors 14