Calibration of DSL photoetching by quantitative EBIC measurements in GaAs single crystals

Abstract

Data di Pubblicazione:

1988

Tipologia CRIS:

04.02 Abstract in Atti di convegno

Keywords:

GaAs; LEC; calibration; EBIC; photoetching

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Titolo del libro:

9th European Congress on Electron Microscopy (EUREM 88)

Pubblicato in:

Series