The effects of laser and electron beam annealing on ion implanted silicon solar cells
Contributo in Atti di convegno
Data di Pubblicazione:
1980
Abstract:
L'impiantazione con ioni di fosforo, seguita da tre differenti tecniche di annealing (termico, laser e a fascio di elettroni pulsato), รจ stata impiegata per la fabbricazione di celle solari al silicio. Vengono confrontati i risultati delle diverse metodologie in termini di efficienza delle celle solari e presenza di difetti strutturali.
Tipologia CRIS:
04.01 Contributo in Atti di convegno
Keywords:
laser; fascio di elettroni; celle solari; impianto di fosforo; efficienza; difetti strutturali
Elenco autori:
Miccoli, Giuseppe
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