X-RAY PHOTOEMISSION AND AUGER-SPECTRA OF DAMAGE INDUCED BY AR+-ION ETCHING AT SIO2 SURFACES
Articolo
Data di Pubblicazione:
1987
Abstract:
XPS study of argon ion induced chemical reduction of silica surfaces
Tipologia CRIS:
01.01 Articolo in rivista
Keywords:
XPS; silica; Ar ion etching
Elenco autori:
Paparazzo, Ernesto
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