A new plasma chemical system for the deposition of amorphous silicon-germanium alloys

Contributo in Atti di convegno

Data di Pubblicazione:

1991

Tipologia CRIS:

04.01 Contributo in Atti di convegno

Elenco autori:

Cicala, Grazia

Link alla scheda completa:

https://iris.cnr.it/handle/20.500.14243/116726

Titolo del libro:

10th International Symposium on Plasma Chemistry, (ISPC-10) Proceedings IUPAC