Publication Date:
2009
abstract:
La possibilità di ottenere film sottili di elevata qualità in termini di purezz chimica e perfezione strutturale ha fatto da base e da stimolo per lo sviluppo di molte tecnologie avanzate (elettronica, meccanica, energetica etc). E' ovvio che una notevole attenzone è stata dedicata dalla ricerca alla messa a punto dei metodi di produzione di tali film, in particolare a quelli basati sulla deposizione da fase vapore. Tra questi l'ALD (Atomic Layer Deposition) è in una fase di grande sviluppo grazie ai risultati ottenuti e alle prospettive.....
Iris type:
01.01 Articolo in rivista
Keywords:
ALD; CVD
List of contributors: