A study of suppression effect of oxygen contamination by bias voltage in reactively sputtered ZrN films

Articolo
Data di Pubblicazione:
2012
Abstract:
[object Object]
Tipologia CRIS:
01.01 Articolo in rivista
Keywords:
Oxygen contamination; R. F. sputtering magnetron; Zirconium nitride
Elenco autori:
Autori di Ateneo:
Link alla scheda completa:
https://iris.cnr.it/handle/20.500.14243/282353
Pubblicato in:
SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY
Journal